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氮化硅的生产方法刘佩珠

氮化硅的生产方法刘佩珠

  • 氮化硅粉体制备方法研究进展【维普期刊官网】 中文期刊

    摘要 综述了氮化硅粉体的制备方法和国内外研究现状,并对目前大规模采用的硅粉直接氮化法和碳热还原二氧化硅法存在的问题进行了分析。 综述了氮化硅粉体的制备方法和国内外研究现状, 摘要: 综述了氮化硅粉体的制备方法和国内外研究现状,并对目前大规模采用的硅粉直接氮化法和碳热还原二氧化硅法存在的问题进行了分析。 引用本文氮化硅粉体制备方法研究进展2020年3月10日  先利用 溶胶凝胶法 制备出二氧化硅,然后同时利用 碳热还原法 和氮化对其中包含特细碳粒子的 硅胶 进行处理后得到氮化硅纳米线。 硅胶中的特细碳粒子是由葡萄糖在1200 氮化硅合成方法及加工 知乎本文系统综述氮化硅薄膜的性质、结构、应用及各种制备方法,并对今后的研究作了展望。 氮化硅薄膜是一种多功能材料,在许多领域有着广泛的应用。 As a kind of mufti functional materials, 氮化硅薄膜制备方法现状综述【维普期刊官网】 中文期刊

  • 氮化硅粉末的制造方法 百度学术

    一种氮化硅粉末的制造方法,其特征在于,包括如下工序:准备包含90质量%以上的硅粉末的原料粉末的工序;将前述原料粉末填充至耐热性反应容器的工序;在氮气气氛下,对填充至前述反应容器的 2017年12月11日  本发明属于无机化合物纳米材料领域,具体涉及一种纳米氮化硅及其制备方法,该纳米氮化硅及其制备方法为将硅酸盐进行球磨处理,得到粉末状的硅酸盐;将得到的粉末状的硅 纳米氮化硅及其制备方法 百度学术综述了氮化硅粉体的制备方法和国内外研究现状,并对目前大规模采用的硅粉直接氮化法和碳热还原二氧化硅法存在的问题进行了分析。 所需耐材币: 0氮化硅粉体制备方法研究进展 第5期 耐火材料 2022年9月19日  本发明公开了一种氮化硅单晶材料及其制备方法,涉及氮化硅单晶技术领域,包括步骤10,提供单晶硅片衬底:将单晶硅片放入陶瓷舟中,在将陶瓷舟放入加热炉中,并通入惰性气体; 一种氮化硅单晶材料及其制备方法 百度学术

  • 氮化硅的生产方法刘佩珠

    氮化硼生产方法氧化锑克分子比碱性物质混合物反应生成物六方晶体三颈瓶摩尔刘佩珠《无机盐工业》。 此试验工厂将于1983年完工。 电解二氧化锰试验工厂矿业公司技术改造新工艺约翰逊 摘要 综述了氮化硅粉体的制备方法和国内外研究现状,并对目前大规模采用的硅粉直接氮化法和碳热还原二氧化硅法存在的问题进行了分析。 综述了氮化硅粉体的制备方法和国内外研究现状, 氮化硅粉体制备方法研究进展【维普期刊官网】 中文期刊 摘要: 综述了氮化硅粉体的制备方法和国内外研究现状,并对目前大规模采用的硅粉直接氮化法和碳热还原二氧化硅法存在的问题进行了分析。 引用本文氮化硅粉体制备方法研究进展2020年3月10日  先利用 溶胶凝胶法 制备出二氧化硅,然后同时利用 碳热还原法 和氮化对其中包含特细碳粒子的 硅胶 进行处理后得到氮化硅纳米线。 硅胶中的特细碳粒子是由葡萄糖在1200 氮化硅合成方法及加工 知乎

  • 氮化硅薄膜制备方法现状综述【维普期刊官网】 中文期刊

    本文系统综述氮化硅薄膜的性质、结构、应用及各种制备方法,并对今后的研究作了展望。 氮化硅薄膜是一种多功能材料,在许多领域有着广泛的应用。 As a kind of mufti functional materials, 一种氮化硅粉末的制造方法,其特征在于,包括如下工序:准备包含90质量%以上的硅粉末的原料粉末的工序;将前述原料粉末填充至耐热性反应容器的工序;在氮气气氛下,对填充至前述反应容器的 氮化硅粉末的制造方法 百度学术2017年12月11日  本发明属于无机化合物纳米材料领域,具体涉及一种纳米氮化硅及其制备方法,该纳米氮化硅及其制备方法为将硅酸盐进行球磨处理,得到粉末状的硅酸盐;将得到的粉末状的硅 纳米氮化硅及其制备方法 百度学术综述了氮化硅粉体的制备方法和国内外研究现状,并对目前大规模采用的硅粉直接氮化法和碳热还原二氧化硅法存在的问题进行了分析。 所需耐材币: 0氮化硅粉体制备方法研究进展 第5期 耐火材料

  • 一种氮化硅单晶材料及其制备方法 百度学术

    2022年9月19日  本发明公开了一种氮化硅单晶材料及其制备方法,涉及氮化硅单晶技术领域,包括步骤10,提供单晶硅片衬底:将单晶硅片放入陶瓷舟中,在将陶瓷舟放入加热炉中,并通入惰性气体; 氮化硼生产方法氧化锑克分子比碱性物质混合物反应生成物六方晶体三颈瓶摩尔刘佩珠《无机盐工业》。 此试验工厂将于1983年完工。 电解二氧化锰试验工厂矿业公司技术改造新工艺约翰逊 氮化硅的生产方法刘佩珠2022年1月4日  一种高精度氮化硅陶瓷微球及其制备方法和应用 (57)摘要 本发明提供了一种高精度氮化硅陶瓷微球及其制备方法和应用,属于陶瓷球制备技术领域。本发明解决了氮化硅陶瓷微球存在气孔、异常大晶粒、表面凹坑及雪花等缺陷,实现了氮化硅陶瓷微球的高精度一种高精度氮化硅陶瓷微球及其制备方法和应用百度文库摘要 氮化硅薄膜是一种多功能材料,在许多领域有着广泛的应用。 本文系统综述氮化硅薄膜的性质、结构、应用及各种制备方法,并对今后的研究作了展望。 As a kind of mufti functional materials, silicon nitride thin film is widely used in many fields氮化硅薄膜制备方法现状综述【维普期刊官网】 中文期刊

  • 氮化硅微珠的市场前景及其制备工艺流程参考网

    2024年7月6日  滴定成型可以很好的避免坯体分层包心引起的强度低的问题,制备坯体内部结构均匀致密的坯体。34氮化硅微珠脱胶工艺 氮化硅微珠在烧结前需要先真空脱胶,避免坯体内的有机物及水分在烧结过程中挥发氧化、腐蚀烧结炉内的石墨炉膛、匣钵及发热棒。2017年4月26日  主权项: 1一种低温无压烧结氮化硅陶瓷的制备方法;其特征是以α氮化硅和烧结助剂总量为基准,α氮化硅的质量含量为7597%,加入烧结助剂质量含量为325%,将混合粉体球磨混合、干燥;将混合粉料经过造粒、成型,制备出预备烧结体;将预备烧结体排胶后,在15001600℃烧结,得到氮化硅陶瓷 一种低温无压烧结氮化硅陶瓷的制备方法 百度学术氮化铝因高导热和绝缘性得到广泛应用,目前全球氮化铝应用市场处于高速成长期,对氮化铝的需求也在持续增长。氮化铝粉末是制备氮化铝陶瓷的关键原料,其性质对后续制备的氮化铝陶瓷性能有决定性影响。本文整理对比了微米级与纳米级氮化铝粉末的制备方法并对未来氮化铝粉末制备的 氮化铝粉末制备方法及研究进展 USTB2022年1月19日  摘要: 本发明涉及一种氮化硅空心微球的制备方法,该方法以包含酚醛树脂,硅树脂和溶剂的透明溶液为原料,并通过喷雾干燥和烧结来制备氮化硅空心微球,所得空心微球的球形结构较好且球壁致密另外,该方法操作简单,不涉及高压环境,工艺条件更温和,解决了现有技术不容易工业化大规模生产的问题一种氮化硅空心微球及其制备方法 百度学术

  • PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究 维普期刊官网

    摘要 采用等离子体增强化学气相沉积法(PECVD),在单晶硅衬底(100)上成功制备了不同生长工艺条件下的氮化硅薄膜。 分别采用XP2台阶仪、椭圆偏振仪等手段测试了薄膜的厚度、折射率、生长速率等参数。并采用原子力显微镜(AFM展开更多 Under different growth conditions,silicon nitride(SiNx)thin films were deposited 2022年4月8日  氮化硅(Si3N4)薄膜是一种应用广泛的介质材料。作为非晶绝缘物质,氮化硅膜的介质特性优于二氧化硅膜,具有对可动离子阻挡能力强、结构致密、针孔密度小、化学稳定性好、介电常数高等优点,在集成电路制造领域被广泛用作表面钝化保护膜、绝缘层、杂质扩散掩膜、刻蚀掩膜以及半导体元件的 颗粒微课堂 直接氮化法制备氮化硅薄膜的方法2019年7月31日  前后的曲率,法国SOPRALAB公司生产的 GES5E光谱式椭偏仪测量薄膜厚度,Veeco NanoScope MultiMode原子力显微镜对样品表面 进行扫描,分析氮化硅的表面形貌和粗糙度。PECVD制备的氮化硅一般用于芯片最上面 的钝化层,用来保护芯片,在STI和自PECVD氮化硅薄膜性质及工艺研究 2019年4月29日  本发明的一种基于聚硅氮烷先驱体的氮化硅陶瓷材料制备方法,具体制备步骤如下: 1)按物料球质量比为1:(1~4),将50~75wt%的聚硅氮烷、25~50wt%的光固化树脂、3~5wt%的光引发剂与1~5wt%的除泡剂加入球磨机中,200~400rpm转速下球磨1~2小时得到混合均匀的浆料;一种基于聚硅氮烷先驱体的氮化硅陶瓷材料及其制备方法与流程

  • 一种无添加剂低压制备高纯氮化硅的方法 百度学术

    2016年7月31日  高勇,刘久明,付亚杰 展开 国省代号: CN 摘要: 本发明公开了一种无添加剂低压制备高纯氮化硅的方法包括以下步骤:(1)对粒度为50~200目的粗硅粉球磨10h;(2)在细硅粉中加入10~40%氮化铝稀释剂并球磨混匀;(3) 将混合粉体置于氮化炉中,在005~0 2023年7月15日  氮化硅的绝缘性能非常优秀,电阻率可以高达10^14 Ωcm,远超过一些常见的绝缘材料,如氧化硅(SiO2 )。而它的低介电常数又使得它在微波和射频应用中成为理想的隔离层。氮化硅层在芯片中也起到阻挡杂质扩散的作 聊聊氮化硅(SiNx)在芯片中的重要性 知乎2021年8月10日  氮化铝粉末是制备氮化铝陶瓷的关键原料,其性质对后续制备的氮化铝陶瓷性能有决定性影响。本文整理对比了微米级与纳米 级氮化铝粉末的制备方法并对未来氮化铝粉末制备的研究方向和发展趋势提出了展望。关键词 氮化铝;制粉工艺;功能陶瓷;纳米粉体氮化铝粉末制备方法及研究进展 USTB2020年11月2日  该制备方法的缺点是二氧化硅很难完全还原氮化,残存二氧化硅会极大影响陶瓷的高温性能。陈宏等对二氧化硅在氮气气氛下碳热还原制备氮化硅的反应体系进行了热力学分析,最终得出了制备纯氮化硅的工艺条件是氮气流量为3Lmin1,煅烧温度为1500℃。氮化硅微粉的八种制备方法

  • PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究 百度文库

    PECVD法氮化硅薄膜生长工艺的研究80 Plus 在 2 英寸 (50 mm) p 型〈100〉晶向的单晶硅片上沉积约 100~400 nm 的氮化பைடு நூலகம்薄膜 。 薄膜制备过程如下 : 实验前使用乙醇和丙酮超声清洗样品 15 min 以去除油污 , 然后用 1 号液 (V ( H2 O) ∶ 2022年6月20日  氮化硅陶瓷物理特性 氮化硅(Si3N4)分子中Si原子和周围4个N原子以共价键结合,其共价键长较短,成键电子数目多,原子间排列的方向性强,相邻原子间相互作用大。 与基本氮化硅陶瓷对比,纳米技术氮化硅陶瓷的耐热震性较弱Hoffmann等的科学研究得出结论,当热震温度差为700时,小晶体Si3N4瓷器比较 高韧性高硬度氮化硅陶瓷珠的介绍及用途 知乎株洲市创锐高强陶瓷有限公司是 一家专业研发与生产高性能陶瓷材料和制品的制造商。 1997 年,推出了氧化锆微珠,打破了国外在该领域的技术垄断。 2006 年公司正式成立,以 “制造强国,质量强国”为初心,以“技术创新、技术引领、特色工艺、规模生产”为核心,继而先后成功独立研发并 株洲市创锐高强陶瓷有限公司官网2024年4月1日  最后,对制备好的氮化铝陶瓷样品进行表征和分析,例如使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和热重分析(TGA)等技术,评估其结构、形貌和性能。 制备方法 (碳热还原法) 碳热还原法是一种从氮化铝前体中制备氮化铝粉末的方法。氮化铝AlN的发展和制备方法 Around Physics

  • 氮化硅陶瓷外接管的制备方法及其与金属焊接的原理

    2024年7月24日  二、氮化硅陶瓷外接管的制备方法 氮化硅陶瓷的制备 过程通常包括粉体制备、成型、烧结和后加工几个阶段。粉体制备是将纯硅粉在氮气环境中进行反应烧结或通过化学气相沉积来获得氮化硅粉末。成型则是将粉末通过干压、注射成型或浆料 2023年5月24日  威海圆环先进陶瓷股份有限公司是一家专业从事氮化硅微珠、氮化硅研磨球柱结合体、氮化硅磨介圈、氮化硅陶瓷球、高热导率氮化硅陶瓷基板、可重复利用的高热导氮化硅陶瓷坩埚、氮化硅陶瓷结构件等Si ₃ N ₄ 氮化硅精密陶瓷材料的生产企业。威海圆环氮化硅高硬度高纯度超细粉体研磨与分散技术升级——氮化硅微珠 综述了氮化硅粉体的制备方法和国内外研究现状,并对目前大规模采 期刊订阅 广告合作 联系我们 ENGLISH • • 上一篇 氮化硅粉体制备方法研究进展 刘 萍, 徐恩霞, 谢宏旭, 曹雨后 出版日期: 发布日期:氮化硅粉体制备方法研究进展本发明涉及一种氮化硅生产设备,特别是涉及一种高纯度氮化硅粉体生产工艺。背景技术:氮化硅具有良好的抗热冲击性、抗氧化性、耐高温、耐腐蚀、化学稳定性高、强度高等一系列优异的热物理性能,是一种优良的高温结构材料。氮化硅反应炉是在通入氮气、氩气、氢气的状态下把硅石烧 高纯度氮化硅粉体生产工艺的制作方法 X技术网

  • 纳米氮化硅及其制备方法 百度学术

    2017年12月11日  本发明属于无机化合物纳米材料领域,具体涉及一种纳米氮化硅及其制备方法,该纳米氮化硅及其制备方法为将硅酸盐进行球磨处理,得到粉末状的硅酸盐;将得到的粉末状的硅酸盐与镁粉,氯化镁,氯化铵按照质量比为1:(061):(35):(0618)混合均匀得到混合物,然后再将2024年10月11日  氮化硅微珠的市场前景及其制备工艺流程pdf,24 FOSHAN CERAMICS IVol34No6(Serial No335) 氮化硅微珠的市场前景及其制备工艺流程 黄印 (河源帝诺新材料有限公司,广东,河源) 摘要:氮化硅陶瓷具有仅次于金刚石的超高硬度、高抗弯强度、较高的氮化硅微珠的市场前景及其制备工艺流程pdf原创力文档2021年9月2日  本文整理对比了微米级与纳米级氮化铝粉末的制备方法 并对未来氮化铝粉末制备的研究方向和发展趋势提出了展望。AlN制粉研究进展 文章来源:氮化铝粉末制备方法及研究进程 张智睿,秦明礼,吴昊阳,刘昶,贾宝瑞,曲选辉 北科大:氮化铝粉末制备方法的最新研究进展2024年8月8日  同时,由于氮化硅波导的面积小,光场与氧化 硅包层产生强烈的相互作用,光场能激发氧化硅的布 里渊非线性效应[27,3132]。并且,基于这种氮化硅波导 的布里渊激光器的本征线宽达到亚赫兹级别[27]。随 着布里渊激光在氮化硅中的研究发展,目前通过超低损耗氮化硅集成光学:非线性光学和应用(特邀

  • 氮化硅陶瓷介绍与应用 CERADIR 先进陶瓷在线

    2020年11月7日  氮化硅粉体 2氮化硅陶瓷的制造工艺 Si3N4是很难烧结的物质,因此很难实现像氧化物陶瓷那样的致密烧结。Si3N4陶瓷的烧 结方法大致可分为利用氮化 反应烧结法和采用外加剂的致密烧结法两大类。后一类烧结法要 2017年5月17日  一种氮化硅的制备方法和生产氮化硅的系统[发明专利]权利要求书2页 说明书6页 附图1页CN ACN A权利要求书1/2 页1一种氮化硅的制备方法,其特征在于,包括以下步骤 : (1) 在真空条件下,四氯化硅气体和氨气反应生成含氮硅烷化合 一种氮化硅的制备方法和生产氮化硅的系统 [发明专利]百度文库

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